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HALO系列“二合一”PECVD

HALO系列“二合一”PECVD

產品特點 1.石墨舟電極技術:前電極面接觸,可定期更換清洗電極塊,尾電極爐管外可調,加大電極尺寸及優化電極材料,良好解決高頻報警問題;
2.快速降溫爐體:採用最新專利技術,使爐體溫度可以快速降到所需溫度,降溫速率提升25%以上,明顯提升爐管內溫度均勻性;
3.專利儲舟位並行散熱方式:提升降溫效果,縮短降溫時間15%以上,同時避開底部從操作台前面進氣,提高操作台內部潔淨度;
4.石英管輔助吊裝工具,大大降低安裝和維修更換石英管的難度;
5.膜的緻密性高於間接等離子體;
6.比ALD有更好的鈍化效果。
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產品應用

項目

技術指標

成膜種類

AlO,SiO,SiON,SiN,SiC

裝片量

768片/批(182mm),616片/批(210mm),500片/批(230mm)

氧化鋁膜厚均勻性

片內≤6%片間≤6%批間≤5%(182片)

氧化鋁折射率

1.65(±0.05)

UP-TIME

≥98%

工作溫度範圍

100~600℃

溫度控制

9點控溫,內外雙模控制

升溫方式

自動斜率升溫及快速恆溫功能

降溫方式

最新專利技術,9溫區分段控制主動降溫爐體

恆溫區精度及長度

±2°C/3200mm(500°C)

單點溫度穩定度

<±1°C/4h(500°C)

升溫時間

RT→450℃≤45min

溫度控制

雙模精確控制

系統極限真空度

<3Pa

系統漏氣率

停泵關閥後壓力升率<1Pa/min

壓力控制方式

快速調整全自動閉環

工藝控制方式

工藝過程全自動控制,多重安全連鎖報警

人機交互界面

LCD顯示、觸摸操作、工藝編輯、在線監控、權限管理、班組管理、組網功能

MES/CCRM

具有


產品參數

適用於高效晶體矽PERC電池工藝過程中生長緻密的氧化鋁等背鈍化薄膜材料,具有多種複合膜連續生長的特點。

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